: 中林太美世, 黒川敦, 増田弘生, 橋本昌宜, 佐藤高史, 45-65nmプロセスにおける遅延ばらつき特性の環境温度依存, 2007年4月.
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| 中林太美世, 黒川敦, 増田弘生, 橋本昌宜, 佐藤高史, "45-65nmプロセスにおける遅延ばらつき特性の環境温度依存," 第20回 回路とシステム(軽井沢)ワークショップ, pp. 691--696, 2007年4月. | |
| ID | 178 |
| 分類 | 国内会議(査読付き) |
| タグ | |
| 表題 (title) |
45-65nmプロセスにおける遅延ばらつき特性の環境温度依存 |
| 表題 (英文) |
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| 著者名 (author) |
中林 太美世,黒川 敦,増田 弘生,橋本 昌宜,佐藤 高史 |
| 英文著者名 (author) |
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| キー (key) |
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| 定期刊行物名 (journal) |
第20回 回路とシステム(軽井沢)ワークショップ |
| 定期刊行物名 (英文) |
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| 巻数 (volume) |
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| 号数 (number) |
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| ページ範囲 (pages) |
691--696 |
| 刊行月 (month) |
4 |
| 出版年 (year) |
2007 |
| Impact Factor (JCR) |
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| URL |
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| 付加情報 (note) |
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| 注釈 (annote) |
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| 内容梗概 (abstract) |
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| 論文電子ファイル | 86.pdf (application/pdf) [一般閲覧可] |
| BiBTeXエントリ |
@article{id178,
title = {45-65nmプロセスにおける遅延ばらつき特性の環境温度依存},
author = {中林 太美世 and 黒川 敦 and 増田 弘生 and 橋本 昌宜 and 佐藤 高史},
journal = {第20回 回路とシステム(軽井沢)ワークショップ},
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year = {2007},
}
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