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中林太美世, 黒川敦, 増田弘生, 橋本昌宜, 佐藤高史, "45-65nmプロセスにおける遅延ばらつき特性の環境温度依存," 第20回 回路とシステム(軽井沢)ワークショップ, pp. 691--696, 2007年4月.
ID 178
分類 国内会議(査読付き)
タグ
表題 (title) 45-65nmプロセスにおける遅延ばらつき特性の環境温度依存
表題 (英文)
著者名 (author) 中林 太美世,黒川 敦,増田 弘生,橋本 昌宜,佐藤 高史
英文著者名 (author)
キー (key)
定期刊行物名 (journal) 第20回 回路とシステム(軽井沢)ワークショップ
定期刊行物名 (英文)
巻数 (volume)
号数 (number)
ページ範囲 (pages) 691--696
刊行月 (month) 4
出版年 (year) 2007
Impact Factor (JCR)
URL
付加情報 (note)
注釈 (annote)
内容梗概 (abstract)
論文電子ファイル 86.pdf (application/pdf) [一般閲覧可]
BiBTeXエントリ
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