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中林太美世, 黒川敦, 増田弘生, 橋本昌宜, 佐藤高史, "45-65nmプロセスにおける遅延ばらつき特性の環境温度依存," 第20回 回路とシステム(軽井沢)ワークショップ, pp. 691--696, 2007年4月. | |
ID | 178 |
分類 | 国内会議(査読付き) |
タグ | |
表題 (title) |
45-65nmプロセスにおける遅延ばらつき特性の環境温度依存 |
表題 (英文) |
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著者名 (author) |
中林 太美世,黒川 敦,増田 弘生,橋本 昌宜,佐藤 高史 |
英文著者名 (author) |
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キー (key) |
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定期刊行物名 (journal) |
第20回 回路とシステム(軽井沢)ワークショップ |
定期刊行物名 (英文) |
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巻数 (volume) |
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号数 (number) |
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ページ範囲 (pages) |
691--696 |
刊行月 (month) |
4 |
出版年 (year) |
2007 |
Impact Factor (JCR) |
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URL |
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付加情報 (note) |
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注釈 (annote) |
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内容梗概 (abstract) |
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論文電子ファイル | 86.pdf (application/pdf) [一般閲覧可] |
BiBTeXエントリ |
@article{id178, title = {45-65nmプロセスにおける遅延ばらつき特性の環境温度依存}, author = {中林 太美世 and 黒川 敦 and 増田 弘生 and 橋本 昌宜 and 佐藤 高史}, journal = {第20回 回路とシステム(軽井沢)ワークショップ}, pages = {691--696}, month = {4}, year = {2007}, } |